Sub-nm 초미세공정용 첨단소재 개발

• Photo-resist (PR): 차세대 노광 공정을 위한 고성능 감광촉매 개발.
  • 구조에 따른 분자에너지 계산을 통한 신규 고분자 및 PAG 분자 디자인 및 구조 도출
  • ArF-i 고분자의 결정 혹은 고체 구조에 관한 전산모사
  • 다양한 acidity controller에 따른 특성 제어 연구 및 기초 물성 평가를 통한 database 확보
• Atomic layer deposition (ALD): 기능성 박막 미세제어 공정과 증착용 첨단 소재 개발
  • 전산모사를 통한 신규 고유전율 유전막 ALD 증착용 프리커서 리간드의 구조 스크리닝
  • 다양한 물리적 조성 및 구조를 가진 계면층의 전기적 특성 분석
  • 할로겐원소 기반 고신뢰성 시냅스 소자 확보